XsSOI, CESL, TiN Gate - IEEE Xplore

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                                                  

2007 Symposium on VLSI Technology Digest of Technical Papers



150

300

+100%

100

0,Ref

/µ



 

t-CESL

-600 -400 -200 ON

0

200 400 600 800

(µA/µm)

  Stressor

Stress

n



p

n

p

c-CESL

Comp. X

-30

+60 -100

t-CESL

Tens. X

+30

-60 +100 +12.5

TiN (or c-CESL) Comp. Y + narrow fins

-20

-50

+49

+28

+49 +28

+49

+28

Comp. Z

-12.5

2D stress optimization for both n & pMOS : SINGLE t-CESL + TiN + Narrow fins

     

t-CESL c-CESL

-50 holes

100

XsSOI

50

c-CESL

0

t-CESL

3 2.5

lines= ; dashed= V =50mV ; L =10µm D G open=sSOI ; full=XsSOI black=nMOS ; red=pMOS XsSOI n

XsSOI n

50

sSOI n XsSOI p sSOI n

XsSOI p sSOI p

0

sSOI p

sSOI

100

0

1000

Gate Length (nm)

Top view normalisation ; V =50mV ; L =10µm D G lines= ; dashed= Ref. c-CESL t-CESL

2



600

1.5

50

100

150

200

Fin Width (nm)

250



  BOX overetch=

-750MPa

0nm

0

Z

2nm

X

Y

550MPa

10nm

400

nMOS

σ

σYY

YY

200



1

σ

pMOS

ZZ

σZZ

0 Mean 3nm under gate stack

0.5 0



100

50

100

150

200

250

0

100

200

25nm

Fin Width (nm) Fin Width (nm)       2.5

300

(2T +W) normalisation ; V =50mV ; L =10µm Si

D

lines=simu (Fig. 9) + model piezo symb=exp

2

e ff

1 0.5

+55%

0 0

150

pMOS



100 50



50

100

nMOS pMOS

200



+18%



L

G

150

Fin Width (nm)

200

0

250



  

c-CESL

XsSOI

700



t-CESL

-10

600

Ref.

XsSOI

I

XsSOI sSOI

Re f.

(A/µm)

SOI (open) SOI (closed)

I

OFF

-8



 

Transconductance (µS/µm)

Top view normalisation

-11

electrons

-50 W=10µm 10

500

W=50*50nm Leff